Samsung adia processo de 1,4 nm para 2029 e muda estratégia para chips de 1 nm

A Samsung Foundry apresentou seu roteiro atualizado de tecnologias de fabricação na conferência Next-Generation Lithography + Patterning (NGL 2026) desta semana.

E a empresa revelou mudanças significativas em relação ao roteiro de 2024 .

Em vez de lançar às pressas seu nó SF1.4 (classe de 1,4 nm) no mercado, a Samsung focará no aprimoramento de seus processos de fabricação SF2 (classe de 2 nm) nos próximos três anos.

Além disso, a partir do nó de fabricação SF1A (classe de 1 nm), a Samsung pretende adotar equipamentos de litografia EUV de Alta Abertura Numérica (Alta-NA).

Esta é a primeira vez que a empresa confirma tal plano.

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Antes de avançar para o nó de 10 angstroms (ou classe de 1 nm) por volta de 2030, a Samsung aperfeiçoará suas tecnologias de fabricação da série SF2 .

Isso inclui SF2P, SF2X, SF2A e SF2Z com fornecimento de energia pela parte traseira/BSPDN.

Assim, a empresa introduzirá seu processo SF1.4 em 2029.