ASML amplia sua dominância na fabricação de chips com adoção de tecnologia High NA

AMSTERDÃ, 14 Set (Reuters) - Quando a fabricante holandesa de equipamentos para semicondutores ASML inaugurou na semana passada a construção de uma nova fábrica em Eindhoven, o diretor financeiro Roger Dassen afirmou que o boom da ​inteligência artificial transformou o humor dos clientes.

As máquinas EUV atuais da empresa, ​vendidas por cerca de US$200 milhões cada e essenciais para a fabricação de chips avançados de inteligência artificial, estão praticamente esgotadas até 2027. Ao mesmo tempo, os clientes vêm assumindo uma série de compromissos para adotar a próxima geração de equipamentos da ASML, os sistemas High ​NA, que custam cerca de US$400 milhões ⁠por unidade.

“Vocês conseguem me ​entregar mais? Conseguem entregar mais rápido?” foi o tom recente de uma conversa com um ⁠grande cliente, segundo Dassen.

A TSMC, a Samsung e a SK Hynix já ​definiram datas para iniciar o uso do High NA em produção, enquanto a pioneira Intel afirmou que as máquinas já atingem os padrões exigidos de produtividade e confiabilidade. Junto com os novos planos de expansão da ‌capacidade produtiva, esses avanços indicam que a empresa mais ‌valiosa da Europa ​poderá manter sua posição dominante no mercado de máquinas de litografia para fabricação de chips até a década de 2030.

“Para ser sincero, não acho que estejamos no fim do boom da IA”, disse o presidente-executivo da ASML, Christophe Fouquet, à Reuters.

Os clientes ‌da ASML incluem praticamente todos os grandes fabricantes de chips, especialmente a TSMC, que produz semicondutores para empresas como Apple e Nvidia. A TSMC havia questionado anteriormente se o High NA justificava seu preço de US$400 milhões, mas agora se comprometeu a utilizar a tecnologia a partir de 2030.

Durante anos, os fabricantes de chips avaliaram se avanços em encapsulamento, empilhamento tridimensional e outras técnicas de produção poderiam reduzir a necessidade do High NA.

Os compromissos anunciados indicam que os principais grupos do setor ainda acreditam que a redução contínua das dimensões dos circuitos será necessária para melhorar o desempenho dos chips.

O High NA consegue imprimir estruturas cerca de 40% menores do que ‌os sistemas EUV convencionais, potencialmente reduzindo etapas de fabricação e aumentando a produtividade. Em contrapartida, custa aproximadamente o dobro.

Segundo estimativa do JPMorgan, a ASML detinha 94% do mercado global de litografia em 2025.

Na ​tecnologia mais avançada, sua posição é ainda mais forte. Desde o fim da década de 2010, a companhia mantém um monopólio nas máquinas que utilizam luz ultravioleta extrema, indispensáveis para fabricar ‌os menores circuitos presentes nos chips comerciais de IA mais poderosos.

O High NA, cuja primeira unidade foi entregue em 2023, representa a próxima geração da tecnologia EUV.

A ASML não possui concorrentes comerciais em EUV. As japonesas Nikon e Canon , além de ‌novos competidores chineses, fabricam sistemas baseados em DUV (ultravioleta ‌profundo), uma tecnologia mais antiga.