ASML e Zeiss afirmam que tecnologia de fabricação de chips de próxima geração poderá estar pronta em 10 anos

AMSTERDÃ, 8 Out (Reuters) - Um sucessor da máquina de fabricação de chips mais avançada da ASML poderá estar pronto em cerca de 10 ​anos, afirmaram engenheiros da empresa e de ​sua parceira em óptica, a Carl Zeiss, em um artigo revisado por pares.

A ferramenta, apelidada de "Hyper NA", imprimiria circuitos menores, reutilizando grande parte da tecnologia já existente ​das empresas, segundo o ⁠artigo, embora ​ainda existam desafios.

A máquina que a ASML começou a ⁠desenvolver mas ainda não se comprometeu a ​produzir, é importante para as perspectivas futuras da empresa, bem como para as de seus parceiros e concorrentes.

A empresa é ‌a mais valiosa ​da Europa em termos de capitalização de mercado, graças ao seu monopólio em ferramentas de litografia que utilizam luz ultravioleta extrema (EUV) para imprimir ‌os minúsculos circuitos dos chips de IA.

O artigo publicado na edição de outubro do Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology afirma que a tecnologia Hyper NA pode imprimir detalhes com apenas 5 nanômetros, mais de um terço menores do que a atual ferramenta EUV "High NA" da ASML.

Embora os fabricantes de chips estejam aprimorando os chips com designs 3D, componentes ‌menores continuam sendo essenciais para velocidade e consumo de energia, e a litografia é um fator limitante.

Entre os fabricantes de chips, a ​Intel começou a usar High NA na produção, enquanto no mês passado a Samsung e SK Hynix disseram ‌que seguiriam em 2028 e a TSMC em 2030.

O artigo afirmava que a Zeiss já consegue fabricar espelhos com precisão suficiente para a tecnologia ‌Hyper NA, e que a ‌máquina seria pouco maior do que as ferramentas High NA, que já têm o tamanho de ⁠um ônibus de dois andares.

Além do Hyper NA, os autores afirmaram que as ferramentas provavelmente precisarão usar um comprimento de onda de luz mais curto, o que ainda é assunto para pesquisa acadêmica.

Eles afirmaram que a fonte de ​luz atual da ASML "pode ​ser reutilizada tal como está" para o Hyper NA, mencionando em uma nota que uma técnica alternativa com lasers de elétrons livres não alteraria o projeto do sistema de iluminação.

Essas falas são relevantes para startups americanas, incluindo a xLight, que está desenvolvendo fontes de luz laser de elétrons livres que Elon Musk insinuou que poderia priorizar em ⁠sua fábrica de chips Terafab, no Texas, e para a Substrate, que está investindo ​em litografia de raios X.

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